Главная Web Рулонная нанопечатная литография


Рулонная нанопечатная литография

Одним из самых многообещающих способов изготовления интегральных микросхем в недалеком будущем считается нанопечатная литография. В ней применяется  метод формирования необходимых для функционирования микросхемы структур, что производится "выдавливанием" определенного рельефа на подложке.

В  основе изначальной разработке этого метода  лежала миниатюризации интегральных микросхем, на случай если исчерпается возможность использования других вариантов. Компания Molecular Imprints, выступавшая в числе разработчиков технологии, в данном направлении продолжает свои исследования и  сегодня.

Нанопечатная литография с большей  выгодностью выделяет ее от  других оптической литографии, в отдельности от оптической, которая уже исчерпывает себя. И все потому, что она не имеет ограничена в плане миниатюризации.

Ограниченность площади для "печатати", выполнение ее  только на подложке небольшой площади является огромным недостатком у нанопечатной литографии. Применение большим количеством миниатюрных по размерам микросхем с  использованием площади для печати в несколько сантиметров очень часто является нерациональным, так как процесс печати необходимо повторять много раз. К примеру солнечные батареи и дисплеи являются подходящим вариантом, потому что печать интегральных микросхем происходит на подложке большой площади с последующим разрезанием подложек на необходимые  листы.

Метод, когда печатающее устройство представляет собой ролик с полимерным покрытием, имеющим необходимый рельеф называется рулонной нанопечатной литографии. Его предложил профессором Мичиганского Университета Джей Гуо (Jay Guo).Суть его состоит в переносе рельефного рисуночка на резистивный материал, которым покрывают подложку для последующей обработки и формирования необходимой структуры интегральной микросхемы, имеющей полупроводниковый характер.

На сегодняшний день ограничение в применении рулонной нанопечатной литографии  влияет то, что миниатюризация пока не дотягивает до современного уровня (пока возможно изготовлять 50-нм микрочипы ), а рельефный рисунок будущей интегральной микросхемы производится на подложке размером не более 15 сантиметров. Но на смотря на все ограничения, изготовляется большое количество оптоэлектронных устройств, а исследователи, будучи неудовлетворенными достигнутым, стремятся существенно модернизировать технологию нанопечатной литографии.

В связи с возможностью уменьшения себестоимости продукции, при дальнейшем усовершенствования установки, специалисты  радостно восприняли предложенную профессором Джей Гуо методику изготовления интегральных микросхем.

О желании внедрить новую технологию в производство говорит заинтересованность ряда компаний поддерживать исследователей в разработке новейшего метода изготовления полупроводниковых устройств.

Приближается 8 марта, вам нужно купить своей второй половинке цветы? Найти букеты Киев http://skidochnik.com.ua/category/suveniry-i-podarki/cvety/ можно на сайте skidochnik.com.u, там можно приобрести подарочные купоны и скидочные что даст вам возможность приобрести цветы в Киеве со скидкой. 


 

Читайте нас:

Голосование

Какой раздел вам наиболее интересен?
 
Яндекс.Метрика /index.php?option=com_content&view=article&id=102:2010-09-11-22-44-05&catid=44:web&Itemid=121
rss
Карта