Рулонная нанопечатная литография |
Одним из самых многообещающих способов изготовления интегральных микросхем в недалеком будущем считается нанопечатная литография. В ней применяется метод формирования необходимых для функционирования микросхемы структур, что производится "выдавливанием" определенного рельефа на подложке. В основе изначальной разработке этого метода лежала миниатюризации интегральных микросхем, на случай если исчерпается возможность использования других вариантов. Компания Molecular Imprints, выступавшая в числе разработчиков технологии, в данном направлении продолжает свои исследования и сегодня. Нанопечатная литография с большей выгодностью выделяет ее от других оптической литографии, в отдельности от оптической, которая уже исчерпывает себя. И все потому, что она не имеет ограничена в плане миниатюризации. Ограниченность площади для "печатати", выполнение ее только на подложке небольшой площади является огромным недостатком у нанопечатной литографии. Применение большим количеством миниатюрных по размерам микросхем с использованием площади для печати в несколько сантиметров очень часто является нерациональным, так как процесс печати необходимо повторять много раз. К примеру солнечные батареи и дисплеи являются подходящим вариантом, потому что печать интегральных микросхем происходит на подложке большой площади с последующим разрезанием подложек на необходимые листы. Метод, когда печатающее устройство представляет собой ролик с полимерным покрытием, имеющим необходимый рельеф называется рулонной нанопечатной литографии. Его предложил профессором Мичиганского Университета Джей Гуо (Jay Guo).Суть его состоит в переносе рельефного рисуночка на резистивный материал, которым покрывают подложку для последующей обработки и формирования необходимой структуры интегральной микросхемы, имеющей полупроводниковый характер. На сегодняшний день ограничение в применении рулонной нанопечатной литографии влияет то, что миниатюризация пока не дотягивает до современного уровня (пока возможно изготовлять 50-нм микрочипы ), а рельефный рисунок будущей интегральной микросхемы производится на подложке размером не более 15 сантиметров. Но на смотря на все ограничения, изготовляется большое количество оптоэлектронных устройств, а исследователи, будучи неудовлетворенными достигнутым, стремятся существенно модернизировать технологию нанопечатной литографии. В связи с возможностью уменьшения себестоимости продукции, при дальнейшем усовершенствования установки, специалисты радостно восприняли предложенную профессором Джей Гуо методику изготовления интегральных микросхем. О желании внедрить новую технологию в производство говорит заинтересованность ряда компаний поддерживать исследователей в разработке новейшего метода изготовления полупроводниковых устройств. Приближается 8 марта, вам нужно купить своей второй половинке цветы? Найти букеты Киев http://skidochnik.com.ua/category/suveniry-i-podarki/cvety/ можно на сайте skidochnik.com.u, там можно приобрести подарочные купоны и скидочные что даст вам возможность приобрести цветы в Киеве со скидкой. |